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半導體行業碳化硅長晶爐應用案例

2024-09-12

物理氣相傳輸法(PVT)是制備碳化硅(SiC)晶體的主流方法之一,PVT法生長SiC單晶,溫度高達2300℃,生長過程需嚴格控制生長溫度梯度,其溫度控制系統為閉環控制,由紅外測溫儀、溫控器、加熱電源以及加熱器(感應線圈)組成。

系統框圖:

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宇電AI系列人工智能調節器

1、AI-8x9系列

2、AI-MODBUS-TCP1-24VDC

成功應用于國內某半導體裝備制造頭部企業碳化硅長晶爐,該系統溫度的精確控制,儀表兼容多類型輸入/輸出規格,具備可調的控制周期及報警功能,通訊兼容RS485及RS232,且可匹配外部TCP模塊實現MODBUS-TCP便捷通訊。

溫度控制效果:

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圖片3.png

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溫度控制效果:溫度波動≤±0.5℃@2200℃,溫度超調、穩定時間等指標均與英國競品水平相當,經終端客戶驗證,可完全平替國外競品,成功實現國產替代。


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